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鋁合金表面處理除油、拋光工藝流程及配方

   日期:2010-05-08     瀏覽:3047    評(píng)論:0    
核心提示: 化學(xué)拋光是利用鋁和鋁合金制作在酸性或堿性電解質(zhì)溶液中的選擇性自溶解作用,來(lái)整平拋光制年表面,以降低其表面粗糙度、PH的化學(xué)加工方法。這種拋光方法具有設(shè)備簡(jiǎn)單、不用電源,不受制件外型尺寸限制,拋興速度高和加工成本低等優(yōu)點(diǎn)。

 為使鋁制品表面光亮平滑,經(jīng)成型后的鋁制品一般都經(jīng)過(guò)機(jī)械拋光。但機(jī)械拋光后進(jìn)行氧化,只能得到平滑的氧化膜,光澤度往往還不夠。對(duì)要求高光澤裝飾性氧化膜的產(chǎn)品,經(jīng)機(jī)械拋光后還要進(jìn)行化學(xué)拋光或電解拋光。純鋁或高純鋁鎂合金經(jīng)化學(xué)拋光或電解拋光后能獲高反射系數(shù)的光澤表面,特別是電解拋光,能獲得令人十分滿意的效果。遺憾的是,一般三酸化學(xué)拋光溶液由于含有硝酸(HNO3),加溫操作,分解出二氧化氮(NO2)氣體而產(chǎn)生“黃龍”公害。而質(zhì)量?jī)?yōu)良穩(wěn)定的電解拋光液都含有鉻酐,從而產(chǎn)生含鉻廢水、污染環(huán)境,造成三廢處理問(wèn)題。很自然,人們都想研試不產(chǎn)生“黃龍”的化學(xué)拋光和不含鉻的電解拋光工藝。

一、對(duì)鋁制品表面進(jìn)行機(jī)械拋光:  
   

1、機(jī)械拋光工序?yàn)椋捍帜?、?xì)磨、拋光、拋亮、噴砂、刷光或滾光等,根據(jù)制表面的粗糙程度來(lái)適當(dāng)采取不同的工序。

    二、化學(xué)除油:

    化學(xué)除油過(guò)程是借著化學(xué)反應(yīng)和物理化學(xué)作用,除去制件表面的油污。化學(xué)除油采用弱堿性溶液中進(jìn)行。

    化學(xué)除油液的配方和工藝條件:

    1、配方:氫氧化鈉30-50G/L,工業(yè)洗滌劑0.5-1ML/L,水70-125G。

    2、工藝條件:溫度:50-60℃時(shí)間:1-2min

    3、除油后用清水沖洗。

    4、化學(xué)除氧化膜:進(jìn)行酸洗處理以中和制件表面殘留的堿液,并除去其自然氧化膜,使之露出制件的鋁及鋁合金基體,對(duì)于含硅鋁合金制作,必須用混合溶液進(jìn)行酸洗,以除去其表面的暗色硅浮灰。

酸洗液的配方:

    濃硝液200~270ML/L 

    溫度:室溫時(shí)間:1-3min

    除去含硅鋁合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方:

    濃硝酸3體積;濃氫氟酸1體積。

    溫度:室溫時(shí)間:5-15min

    鋁及鋁合金制件經(jīng)化學(xué)酸洗后,必須立即用流動(dòng)溫水和冷水清洗,以除去殘酸,然后浸入水中,以備化學(xué)拋光。

    5、化學(xué)拋光:

    化學(xué)拋光是利用鋁和鋁合金制作在酸性或堿性電解質(zhì)溶液中的選擇性自溶解作用,來(lái)整平拋光制年表面,以降低其表面粗糙度、PH的化學(xué)加工方法。這種拋光方法具有設(shè)備簡(jiǎn)單、不用電源,不受制件外型尺寸限制,拋興速度高和加工成本低等優(yōu)點(diǎn)。

    鋁及鋁合金的純度對(duì)化學(xué)拋光的質(zhì)量具有很大的影響,它的純度愈高,拋光質(zhì)量愈好,反之就愈差。

    化學(xué)拋光就是采用簡(jiǎn)要的粘性液膜理論進(jìn)行的。

拋光液配方和工藝條件:

    配方一:(重量份)

    濃磷酸75%;濃硫酸8.8%;濃硝酸8.8%;尿素3.1%;硫酸胺4.4%;硫酸銅0.02%。

    溫度:100-200℃時(shí)間:2-3min

配方二:(重量份)

    濃磷酸85%;濃硝酸5%;冰乙酸10%。

    溫度:90-105℃時(shí)間:2-5min  

    拋光液的配制方法:

    1、先把磷酸、硫酸和硝酸按照一定的(%)重量,逐漸依次倒入拋光槽內(nèi),小心攔勻。

    2、再按配方的成分,分別用水溶解一定(%)重量的冰乙酸、尿素、硫酸胺、硫酸銅加入槽內(nèi)拌勻。

    3、然后,在攪拌狀態(tài)下,逐漸調(diào)節(jié)上述拋光液至各配方所需的溫度范圍,即可進(jìn)行化學(xué)拋光。 

    三、化學(xué)拋光工藝條件的影響:

    1、溫度影響:溫度應(yīng)控制在90-115℃之間,其中最佳溫度為105℃。

    2、拋光時(shí)間的影響:拋光時(shí)間與拋光溫度成反比,溫度低延長(zhǎng)拋光時(shí)間,溫度高縮拋光時(shí)間。

 


 
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